工業(yè)潔凈技術和生物潔凈技術必將隨著科學技術的發(fā)展和工業(yè)產品的日新月異而快速地發(fā)展，成為現(xiàn)代工業(yè)生產和科學實驗活動不可缺少的重要技術標志之一。
目前，潔凈技術已廣泛應用于各行各業(yè)或其他要求防止粒子污染、微生物污染的環(huán)境控制、由于各行業(yè)間差距較大，且要求不同，因此控制環(huán)境的內容、指標均不相同。下面就來對常見的行業(yè)潔凈技術的要求進行總結。
1、醫(yī)藥產品生產的潔凈室要求
藥品是用于預防、治療疾病和恢復、調整機體功能的特殊商品，它的質量直接關系到人的健康和安危。如果一些藥品在制造過程中受到微生物、塵粒等污染或交叉污染，可能會產生預料不到的疾病和危害。
2、醫(yī)療應用及醫(yī)學研究中的潔凈室要求
以集成電路為代表的工業(yè)環(huán)境控制中多采用工業(yè)潔凈技術和工業(yè)潔凈室；而在醫(yī)學中，多采用生物潔凈室進行微生物污染控制。在生物潔凈室里，這些微生物多由細菌和真菌組成，粒徑尺寸在0.2um以上，常見的細菌粒徑都在0.5um以上，并且多數(shù)依附在其他物質微粒上。生物污染渠道不僅通過空氣，還與人體、與操作人員的服裝有關。
在醫(yī)學研究領域中，生物實驗室、無菌實驗室以及供生物化學、醫(yī)學實驗用的“特殊飼養(yǎng)動物”飼養(yǎng)室也都十分需要控制微生物污染。
3、精密機械和精細化工產品生產的潔凈室要求
隨著科學技術的發(fā)展，許多工業(yè)產品的生產加工對生產環(huán)境中的含塵濃度提出極高的要求，這就需要其生產環(huán)境中具有一定的空氣潔凈等級和控制生產過程所需各類相關物質的供應質量。例如，在膠片生產中，膠片若受到了塵埃的污染，將會發(fā)生乳劑氧化，活性減弱，pH值變化等，從而影響膠片的感光性能。
4、半導體、集成電路生產的潔凈室要求
半導體材料提純作為發(fā)展半導體器件的重要基礎。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求，為得到高純度的硅材料，原料和中間媒介的高純度和生產環(huán)境的潔凈度成為影響產品質量的一個突出問題。
集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關，而芯片的缺陷密度與空氣中粒子個數(shù)有關。因此，集成電路的高速發(fā)展，不僅對空氣中控制粒子的尺寸有極高的要求，而且也需進一步控制粒子數(shù)；同時，對于超大規(guī)模集成電路生產環(huán)境的化學污染控制也有相關的要求。
5、化妝品、食品生產的潔凈室要求
現(xiàn)代化妝品中大多含有蛋白質、維生素、氨基酸、植物萃取液等，這些組分為細菌、霉菌等微生物的滋生、繁殖提供了有利條件。因此，微生物的污染是影響化妝品質量的重要因素。化妝品生產過程中使用的潔凈室的控制對象主要是塵粒、微生物，與藥品生產用的潔凈室要求類似。目前，化妝品生產用潔凈室的空氣潔凈度等級可參照藥品的GMP規(guī)范進行。
在食品工廠的生產過程中，設施的嚴格管理是確保食品的安全衛(wèi)生，防止發(fā)生由于病原大腸菌、沙門氏菌造成的食品中毒或飲料中混入霉菌等的重要手段。20世紀90年代至今，WHO及一些發(fā)達國家引入HACCP（危害分析重點控制點）系統(tǒng)，制定了利用衛(wèi)生管理生產過程的食品生產承認制度。
